Интегрални Схеми. Определения. Процеси на проектиране и производство. Основни елементи и технологии



Дата27.09.2016
Размер85.81 Kb.
#10891
ТипЛекция


Лекция No 1
Проектиране на СГИС

Интегрални Схеми. Определения. Процеси на проектиране и производство. Основни елементи и технологии
1. Интегрални схеми.






Интегрални схеми - EPROM памет с прозорче за ултравиолетови- лъчи. Прозорчето дава възможност съдържанието на паметта да бъде изтривано, чрез подлагане на лъчение в “изтриващо” устройство


Интегрални схеми – Сложни Програмируеми Логически Устройства (Complex Programmable Logic Devices -CPLD)



Интегралната схема  (Integrated Circuit) отбелязвана също като ИСмикросхемамикрочипсилициев чип, или просто чип) представлява миниатюризирана електронна схема, направана от парче от пластина от полупроводников материал.

Първата интегрална схема е проектирана и деминстрирана от Jack Kilby от Texas Instruments и Robert Noyce от Fairchild Semiconductor (през 1958). Kilby получава Нобелова премия по физика за това през 2000 г.


Интегралните схеми са съставени главно от електронни компоненти като транзистори, диоди, резистори, кондензатори , реализирани върху тънка пластина от полупроводников материал. Един типичен съвременен чип съдържа милиони електронни компоненти (главно транзистори).

Понастоящем интегралните схеми изграждат почти цялата електронна апаратура (вкл. и компютрите). Съществуват различни типове устройства, реализирани върху интегралните схеми в момента – например процесори за компютри, реализирани върху един чип (така наречените микропроцесори), или запомнящи устройства за процесори, мобилни телефони, фотоапарати, съдържащи памет за двоични кодове и данни.

Обикновено, устройствата на съвременната електронна апаратура (напр. Компютрите), съдържат повече от един чипове върху електронни платки, наричани печатни платки (printed circuit boards), примери за които са показани на Фигура 1:



Печатна платка (printed circuit board -PCB), проектирана, използвайки автоматизирана система на компютър (вляво) и закрепени върху нея (асемблирани) интегрални схеми и други електронни компоненти (вдясно), свързани чрез проводникови писти в платката.
Фигура 1

2. Корпуси (Packages) на Интегралните Схеми.

Парчетата от пластина с полупроводников материал на интегралните схеми се вграждат в различни видове корпуси Най- често използваните корпуси за интегрални схеми са показани на Фигура 2 :

DIP (Dual in-line package) - за “традиционни” интегрални схеми с 8 – 40 извода за входни и изходни сигнали (крачета, пинове – рins), разположени в 2 реда (линии).

PGA ( Pin-grid array)за чипове със сравнително голям брой елементи  в тях и сравнително голям брой изводи, които са подредени в концентрични квадрати.

SIP (Single in-line package) – за чипове с малък брой изводи, подредени в една линия.

Освен горните основни типове от корпуси на интегрални схеми, често се използват така наречените single in-line memory modules  (SIMMs), които представляват електронни модули, с до 9 интегрални схеми в тях, функциониращи като завършено устройство, най-често съдържащи памет за компютри.



Фигура 2

3. Основни елементи на производствения процес за интегрални схеми.

Интегралните схеми понастоящем се произвеждат масово като парченца (dies) от кръгла тънка пластина (wafer) от полупроводников материал, най-често силициев монокристал – Фигура 3. В резултат на голям брой сложни фотолитографски процеси в чисти от прах и замърсявания помещения, върху всяко парче от пластината се реализира интегрална схема.



Фигура 3

При фотолитографските процеси, високоенергийна ултравиолетова светлина (UV – light) се пропуска през фотомаска (mask) и попада върху силициевата пластина (Silicon wafer), която е покрита предварително с фоточувствителен защитен филм. Фотомаската представя графично областите от повърхността на чипа, чиито електрически свойства трябва да бъдат променени, за да се реализират чрез тях електронните елементи на схемата (най-често транзисторите). След проявяване на филма, областите от него, облъчени със светлина, се отстраняват. При това положение повърхността на чипа върху пластината съдържа вече защитени и незащитени от филм области. В следващи електрохимични процеси се променят електрическите свойства на незащитените области . След това нов слой от материал (layer) се добавя върху досега третираната повърхност на пластината, покрива се отново с филм, с помощта на други фотомаски отново се определят областите, които ще бъдат третирани чрез фотохимични процеси и по този начин процесите се повтарят многократно, като изграждането на електронната схема се извършва чрез последователно формиране на области с различни електрически свойства, в слой след слой от бъдещата интегрална схема. Последните процеси добавят в съответни нейни слоеве проводникови линии (wires) за свързване на реализираните в интегралната схема електронни елементи. Накрая, пластината се нарязва на парченца (чиповете), които се тестват и поставят в съответните корпуси.

За приготвяне на фотомаските, се използват проектираните (обикновено с помощта на автоматизирана система за проектиране) топологични чертежи на елементите и на цялата интегрална схема (integrated circuit layouts, или  IC layoutsIC mask layouts). Топологичният чертеж е геометрично представяне на интегралната схема и на нейните елементи (компоненти) чрез областите с различни електрически параметри (напр. проводимост и различен вид натрупани носители на електрически заряд) в различните слоеве на пластината. Фигура 4 показва напречен разрез на физическата реализация и прост топологичен чертеж (layout) на основния, често използван елемент (компонент на съвременна интегрална схема - MOS – транзисторът).






Вертикален разрез на физическата реализация на MOS -транзистор в слоевете на Si – монокристал на интегралната схема

The MOS-transistor layout in the integrated circuit

Фигура 4



Топологичен чертеж на цялостно устройство, реализирано в интегрална схема , чрез така наречените “стандартни клетки”

Фигура 4а
4. Някои основни електронни елементи (компоненти) на цифровите интегрални схеми.

Една типична съвременна интегрална схема съдържа милиони реализирани в нея транзистори. Фигура 5 показва топологичен чертеж на част от два реда с n- и p- канални MOS – транзистори в интегрална схема (от така наречения тип “Базов матричен кристал”), която ще бъде разгледана по-нататък в лекциите.





Фигура 5

Реализираните транзистори в интегралните схеми се свързват, за да формират следващите най-често срещани компоненти в интегралните схеми :

а) логическите елементи (gates) в ядрото на интегралните схеми . Логическите елементи от своя страна са компоненти на логическите схеми, необходими за изграждане на цифровите устройства, които се реализират в интегралните схеми.

b) буферите (буферните схеми) в периферията на интегралните схеми. Буферните схеми формират входно-изходните сигнали на устройствата, реализирани в интегралните схеми и осигуряват дисциплина на подаване на сигналите към общи линии и шини Фигура 6):





Фигура 6

Следващата таблица на Фигура 7 показва електрическите схеми на логически елемент ИЛИ – НЕ (NOR –gate) и на логически елемент И – НЕ (NAND- gate), реализирани по най-често използваната днес в интегралните схеми CMOS – технология на изграждане на логическите схеми – чрез двойки от n- канален и p- канален MOS – транзистори:







CMOS – схема на NOR -gate с два аргумента - входове – A и B

CMOS – схема на NAND- gate с два аргумента– входове - A и B

Фигура 7

Следващата таблица на Фигура 8 показва топологичните чертежи за реализация на горните CMOS –логически елементи в интегралните схеми:








Топологичен чертеж на CMOS –логически елемент НЕ-ИЛИ

Топологичен чертеж на CMOS- логически елемент НЕ-И

Фигура 8

В някои интегрални схеми с така наречените постоянни памети (които ще се разглеждат по-нататък), логическите елементи се конструират с диоди и резистори (така наречената диодна логика):







Диодна схема за реализация на логически елемент ИЛИ (OR –gate) с два аргумента (входа) – А и В

Диодна схема за реализация на логически елемент И (AND –gate) с два аргумента (входа) – А и В

Фигура 9
В други интегрални схеми с постоянни памети, се наблюдават логически елементи с n-канални MOS - транзистори (NMOS-логика):



схема на двувходов ИЛИ-НЕ елемент схема на двувходов ИЛИ-НЕ елемент

Фигура 10
На Фигура 11 е показана логическа и електрическа схема на буферна схема с изход с три състояния (tristate buffer), използваща логически елементи и MOS – транзистори:


Фигура 11


Фигура 12 показва чрез опростени диаграми възможните три състояния на изхода на схемата:



Фигура 12


Фигура 13 показва използването на буферните схеми с три състояния на изходите за свързване на цифрови блокове или устройства към обща шина:


Фигура 13

В интегрални схеми с памет, като буфери се използват n-канални MOS - транзистори, свързани като така наречените pass - елементи (Фигура 14):



Фигура 14

На Фигура 15 e илюстрирано използването на n-канални MOS - транзистори като буфери при свързването на всяка еднобитова клетка (представляваща тригер, съставен от два инвертора) към линиите за входни и изходни данни (bit line) на статична памет.





Фигура 15

Фигура 16 показва графично параметрите - време за закъснение на сигналите в един логически елемент и отделяна мощност от един логически елемент за различните видове технологии за реализация на логическите елементи на интегрални схеми.



Фигура 16

На горната графика означените технологии са:

- nMOS – технология на реализация само с n- канални MOS –транзистори;

-CMOS – технология на реализация чрез двойки от n- канален и p- канален MOS – транзистори ;

-BiCMOS – технология на реализация чрез двойки от n- канален и p- канален MOS – транзистори и биполярни транзистори в изходните стъпала на схемите;;

-ECL – технология на реализация чрез емитерно свързани стъпала от биполярни транзистори;

-GaAs - технология на реализация върху пластини от GaAs.

5. Закон на Мур за постигнатия брой реализирани транзистори в интегралните схеми

Според емпирично изведения закон на Мур броят на реализираните транзистори в интегралните схеми расте експоненциално през годините. Този брой се удвоява на всеки две години.

Оказва се, че трендът през годините за почти всеки параметър, измерван с числова стойност, отразяващ възможностите на електронните устройства, спазва закономерността, изведена от Мур - това се отнася за бързодействието на процесорите, капацитетът на паметите, броят на пикселите на цифровите камери ...






Каталог: KST%202%20kurs%20Mag -> 2%20sem -> PSGIS -> Lekcii
Lekcii -> Лекция №2 Проектиране на сгис
Lekcii -> Лекция No 5 Преглед на архитектурните и схемотехнически особености на съвременните fpga чипове
Lekcii -> Лекция №4 Проектиране на сгис памети в компютърните системи архитектура, логически и схемотехнически характеристики
Lekcii -> Лекция No7 Основни типове данни и операции при vhdl описания на цифрови устройства. Реализа
PSGIS -> Проектиране на сгис упражнение No 6
Lekcii -> Стъпки в процеса на проектиране на цифрови устройства върху конфигурируеми чрез маски сгис. Пример за проектиране “отгоре-надолу”


Сподели с приятели:




©obuch.info 2024
отнасят до администрацията

    Начална страница